Reflexionsgrad von EUV-Lithografiespiegeln deutlich verbessert

Im Rahmen des Verbundprojektes ETIK unter Leitung des Konsortialführers Carl Zeiss SMT GmbH und mit Beteiligung weiterer 5 Projektpartner wurden am Fraunhofer IWS Reflexionsschichten für EUV-Lithografiespiegel erarbeitet, die deutliche Verbesserungen gegenüber dem Stand der Technik zum Beginn des Vorhabens aufweisen. Einerseits wurden die Schichtrauheiten im hochfrequenten Spektralbereich um rund einen Faktor 2 verringert. Dies ermöglicht die Herstellung von Spiegeln mit reduzierter Streustrahlung und mit verbesserter Nutzstrahlung. Die erreichte Erhöhung des spekularen Reflexionsgrades auf 70,75 % führt beim Zusammenwirken einer Vielzahl von Spiegeln im gesamten optischen System bei sonst identischer Strahlführung zu einer signifikanten Verringerung der Belichtungszeit pro Wafer.

Ansprechpartner:
Dr. Stefan Braun
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS
Winterbergstr. 28
01277 Dresden
Tel. +49 351 83391 3432
stefan.braun@iws.fraunhofer.de

Presseveröffentlichung vom 11.12.2015

Quelle

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