Entschichten mit Strahlverfahren

Spezielle Eigenschaften eröffnen der Elektronenstrahltechnologie beim Schichtabtrag einige wichtige Vorteile gegenüber anderen Verfahren: Im Unterschied zum Laser, dessen Energie insbesondere bei metallischen Schichten bereits an der Oberfläche absorbiert wird, erfolgt die Absorption beim Elektronenstrahl im Volumen der Schicht, wobei die Eindringtiefe entsprechend der vorhandenen Schichtdicken exakt eingestellt werden kann. Das bestrahlte Volumen wird so direkt ohne den Umweg über Wärmeleitungsprozesse erhitzt und schmelzflüssig aus der Bearbeitungsspur entfernt. Dabei unterscheidet der Elektronenstrahl nicht zwischen optisch transparenten und absorbierenden Schichten, sodass für beide Materialtypen ein und dieselbe Strahlquelle Verwendung finden kann.

Ansprechpartner:
Frank-Holm Rögner
Leiter der Abteilung Elektronenstrahlprozesse
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Dresden
Tel. +49 351 2586-242

Presseveröffentlichung vom 17.05.2016

Quelle

Treibhausgase aus dem Weltraum erfassen
Die Maschine, die zum Bauteil kommt

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