Entwicklung neuer Entspiegelungen mithilfe nanostrukturierter Schichtmaterialien

Ohne Entspiegelung gehen an jeder Grenzfläche einer optischen Komponente mehrere Prozent des Lichtes verloren. Deshalb sind heute insbesondere Systeme aus mehreren Linsen wie z.B. in Fotoapparaten oder Fahrzeugdisplays ohne Antireflex (AR)-Funktion undenkbar. Nanostrukturen mit einer Strukturgröße kleiner der Lichtwellenlänge wirken auf der Oberfläche wie eine sehr niedrigbrechende Schicht. Konkretes Ziel des Projekts war deshalb die Entwicklung eines Verfahrens zur Entspiegelung mithilfe nanostrukturierter Schichten. Die resultierenden Schichtsysteme zeichnen sich durch neuartige Kombinationen von klassischen Interferenzschichtsystemen mit solchen Nanostrukturen aus. Die sogenannten Sub-Wellenlängenstrukturen mit einer Strukturtiefe von wenigen hundert Nanometern wurden dabei durch verschiedene Verfahren erzeugt.

Ansprechpartner:
Dr. Kevin Füchsel
Leiter Strategie / Marketing / Koordination
Fraunhofer IOF
Jena
Tel. +49 3641 807-273

Presseveröffentlichung vom 06.07.2016

Quelle

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